ตัวปรับแสงเชิงพื้นที่พร้อมพื้นผิวเป้าหมายสี่เหลี่ยมขนาดใหญ่ ซีรี่ส์ FSLM-2K73

1、เหมาะสำหรับช่วงสเปกตรัมที่แตกต่างกัน 350nm-420nm, 420nm-1700nm;

2、ความละเอียด: 2048×2048 ซึ่งเป็นเป้าหมายรูปสี่เหลี่ยมจัตุรัสขนาดใหญ่เพียงตัวเดียวในอุตสาหกรรม

3. อัตราการใช้แสงสูงถึง 80%-85%

4. มีโซลูชันการเชื่อมต่อวาล์วแสงคริสตัลเหลวแบบหลายชิ้นให้เลือกใช้

5、มีการกำหนดค่าแบบชิ้นเดียวและหันออกด้านนอกเพื่อตอบสนองความต้องการในการติดตั้งที่หลากหลาย

6. มีผลิตภัณฑ์ประเภทเฟสที่มีข้อกำหนดเดียวกัน ซึ่งช่วยให้สามารถควบคุมแอมพลิจูดและเฟสได้อย่างอิสระ

ติดต่อเรา

รายละเอียดสินค้า

ซีรี่ส์ FSLM-2K73-A ชนิดแอมพลิจูดสะท้อนแสง

แบบอย่าง

FSLM-2K73-A03

ช่วงสเปกตรัม

420นาโนเมตร-1700นาโนเมตร

เวลาตอบสนอง

≤60มิลลิวินาที

การใช้ประโยชน์จากแสง

80%±5%

เกณฑ์ความเสียหาย

20 วัตต์/ซม.²

อัตราส่วนความคมชัด

70：1

แผ่นคลื่นพลัส >1000:1

(พร้อมแผ่นเวฟ 1/4)

แบบอย่าง	FSLM-2K73-P02	ช่วงสเปกตรัม	420นาโนเมตร-700นาโนเมตร
การใช้ประโยชน์จากแสง	40%±5%@532nm 50%±5%@637nm	ความลึกของการปรับ	2π @637 นาโนเมตร สูงสุด: 2.12π/ 3.72π@637nm
การสอบเทียบแกมมา	สนับสนุน	การสอบเทียบเฟส	รองรับ (532nm/635nm)
เกณฑ์ความเสียหาย	≤20 วัตต์/ซม.²(ไม่มีการระบายความร้อนด้วยน้ำ) ≤100 วัตต์/ซม.²(ระบายความร้อนด้วยน้ำ)	ความถี่ในการรีเฟรช	สี 20 Hz, ขาวดำ 60 Hz (8 บิต); สามารถอัปเกรดได้ฟรีโดยจะมีการเปิดตัว 60 Hz สำหรับสีและ 180 Hz สำหรับขาวดำ (8 บิต) ตามมา

แบบอย่าง	FSLM-2K73-P02/03/04AHR	ช่วงสเปกตรัม	420นาโนเมตร-1700นาโนเมตร
เวลาตอบสนอง	≤120มิลลิวินาที	ความลึกของการปรับ	2π @1064 นาโนเมตร สูงสุด: 4.51π@1064nm สูงสุด: 2.85π@1550nm
การสอบเทียบแกมมา	สนับสนุน	การใช้ประโยชน์จากแสง	80%±5%@1064nm
เกณฑ์ความเสียหาย	≤30 วัตต์/ซม.²(ไม่มีการระบายความร้อนด้วยน้ำ) ≤150 วัตต์/ซม.²(ระบายความร้อนด้วยน้ำ)	การสอบเทียบเฟส	สนับสนุน

แบบอย่าง	FSLM-2K73-P03HP	ช่วงสเปกตรัม	1000 นาโนเมตร-1100 นาโนเมตร
เวลาตอบสนอง	≤30มิลลิวินาที	ความลึกของการปรับ	2π@1064nm สูงสุด: 3.5π@1064nm
เกณฑ์ความเสียหาย	≤1000 วัตต์/ซม.²(ไม่มีการระบายความร้อนด้วยน้ำ)	การใช้ประโยชน์จากแสง	96% @1064 นาโนเมตร
การสอบเทียบแกมมา	สนับสนุน	การสอบเทียบเฟส	สนับสนุน